關(guān)于光催化氧化設(shè)備的技術(shù)特點有哪些？下面，為您詳細介紹一下：

1、除惡臭：脫臭速率不錯，脫臭效果超過我國13年頒布的惡臭污染物排放標準。

2、適應性不錯：可適應，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理，可天天24小時連續(xù)工作，運行穩(wěn)定。

3、無需添加任意物質(zhì)：只需要設(shè)置相應的排風管道和排風動力，使惡臭氣體通過本設(shè)備進行脫臭分解凈化，無需添加任意物質(zhì)參與化學反應。

4、通過工程技術(shù)人員長期反復的試驗，制造研制出的，可分解惡臭氣體中不好的不好的物質(zhì)，并能達到不錯的脫臭效果，經(jīng)分解后的惡臭氣體，可達到?jīng)]有危害化排放，不能產(chǎn)生二次污染，同時達到清潔的作用。

5、設(shè)備和氣箱脈沖除塵器一樣占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等特別條件，設(shè)備占地面積＜1平方米/處理10000m3/h風量。

6、運行成本不高：本設(shè)備無任意機械動作，無噪音，不需要專人管理和日常維護，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，設(shè)備風阻低＜50pa，可節(jié)約大量排風動力能耗。

7、無需預處理：惡臭氣體無需進行特別的預處理，如加溫、加濕等，設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃－95℃之間，濕度在30－98、PH值在2-13之間均可正常工作。

8、材料制造：性能穩(wěn)定，使用壽命不錯。

光催化氧化設(shè)備選用低溫等離子體分解廢氣、油霧等污燃原時，等離子體中的粒子起決定性的效果。污染原在等離子體的效果下，發(fā)生活性自由基，活化后的污染物分子經(jīng)過等離子化學反應后被脫除。接下來簡述光催化氧化設(shè)備的使用準則：為工程的性及性，進步自動化水平，下降運轉(zhuǎn)費用，削減日常保護檢修工作量，改進工人操作條件。工藝處理設(shè)備選用結(jié)構(gòu)形式簡略、操作辦理方便、運轉(zhuǎn)的準則。

選用率、低能耗的工藝處理設(shè)備，結(jié)合國內(nèi)、設(shè)備的功能特點，選用適當?shù)脑O(shè)備。達到各工藝生產(chǎn)流程對高程的要求，盡量削減進步高度和進步次數(shù)，以節(jié)省能源。平面布置力求在便于施工、便于裝置和便于檢修的前提下，結(jié)構(gòu)緊湊、進步土地利用率，節(jié)省用地，擴大美化面積。

光催化氧化設(shè)備不可以用于凈化易燃、易爆或腐蝕性的氣體；經(jīng)處理后的廢氣須排到室外；內(nèi)置光管紫外線光束對人的眼睛和皮膚有損傷，請穩(wěn)重當心運用；設(shè)備在室外時，應有防雨、遮陽的雨篷辦法，防止影響設(shè)備的運用壽數(shù)。

它改變了使用活性碳材料的工藝技術(shù)，無需處理原料，無需專人負責，不產(chǎn)生二次污染，換及維護保養(yǎng)方便。低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當外加電壓達到氣體的放電電壓時，氣體被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。

光催化氧化設(shè)備的主要適用范圍；煉油、煉焦、石化、煤氣、香精、合成樹酯、合成纖維、橡膠、油漆、硝酸、煉焦、牛皮紙漿、糞便處理、肉類加工、水產(chǎn)加工、食品配料、畜產(chǎn)加工、氮肥、皮革、骨膠、溶劑、油墨印、垃圾處理等行業(yè)。這些行業(yè)光催化氧化設(shè)備都可以去掉，那么的光氧催化設(shè)備，低溫等離子設(shè)備如果處理這些工況的異味能否達標呢？這些問題也要針對現(xiàn)場工況決定。總體來說，如果有小的異味、煙塵，低溫等離子設(shè)備可以處理掉，如果高的異味要靠光氧催化設(shè)備來處理。如果既有微塵又有高的異味只有光催化氧化設(shè)備來處理掉了。所以大家在選擇的時候要根據(jù)自己的工況來選擇設(shè)備。

車間加工過程中產(chǎn)生的廢氣由集氣罩和管道系統(tǒng)收集，然后在風機作用下送到光催化氧化設(shè)備。起先，氣流均勻地分布在流動平衡板上，并重新分配。廢氣通過初級凈化區(qū)，過濾掉廢氣中的大顆粒和灰塵；接下來是臭氧凈化區(qū)。我們知道臭氧對物具有強烈的氧化作用，廢氣被強制氧化，臭氧則用于惡臭氣體。其他刺激性氣味立即產(chǎn)生影響；光催化凈化區(qū)通過紫外線照射廢氣，破壞廢氣的分子結(jié)構(gòu)，并將其轉(zhuǎn)化為低分子化合物，如H2O和CO2；用光氧催化廢氣處理設(shè)備光催化吸附吸附區(qū)處理。廢氣再次被吸附。